全釉拋(全拋釉)磚的製程和產品特點
全釉拋(全拋釉)磚的製程和產品特點 全拋釉瓷磚做為最新磁磚的品種, 它的開發, 一方面是要解決傳統施釉石英磚花色不夠透明亮麗, 花紋彩釉容易磨損的問題, 另一方面是要解決現今拋光磚紋路不夠細緻, 花色不夠豐富, 表面較易沾污, 不易保養的問題。 為此, 全拋釉磚的生產製程技術特點保留了傳統施釉石英磚的生產工序, 但於磁磚生坯壓製成型, 印花施釉完成後, 額外施加一層堅硬耐磨的透明薄晶釉, 並於燒製完成後, 經過透明晶釉軟拋光加工製程, 順著磚面微微的將外層透明薄晶釉拋光拋亮, 它不同於將磚坯刮平定厚拋光的拋光磚(硬拋光), 它是一種富彈性的軟性薄釉拋光。 採用上述的製造工法, 全拋釉磚基本上讓傳統的施釉石英磚紋路受到堅硬透明晶釉的保護, 不易磨損, 並增加磚面通透感和明亮度, 另一方面, 紋路花色以數位噴墨方式上釉, 紋路細緻色彩豐富, 釉面不易沾污, 改善了拋光磚花色限制和易沾污的缺點。 然而, 雖有上述優點, 全釉拋磚仍未完全解決, 傳統施釉石英磚磚面不夠平整的缺點, 全拋釉磚生產必需進行釉面拋光, 不夠平整的磚無法進行釉面軟拋光, 因此對磚面平整度要求比傳統施釉石英磚嚴苛, 窯燒完成磁磚半成品, 必需進行品管, 不夠平整磁磚, 不能投入釉面拋光製程, 但投入釉面拋光半成品, 因釉面厚度薄, 未進行(也無法進行)一般硬拋光的磚坯刮平定厚拋光工序(拋光磚), 因此釉面拋光完成品無法達到一般拋光磚同樣程度的平整度, 另外, 由於磁磚釉面亮度達90度以上, 也會強化磁磚表面不平整的感覺, 因此表面平整度符合相關品質規範的各品牌全拋釉產品, 鋪貼後, 在明亮光源及不同角度光線折射下, 經過磁磚表面亮度突顯和強化, 也會輕易發現磁磚釉面或多或少, 有程度不一的波浪或表面不夠平整情形, 這也是全拋釉產品的特性之一, 這個問題在室內裝修傢俱擺設後及其它多角度光源輔助照射下會獲得緩解和改善。